“源于此——真艺坊十五周年大展”近日在中国艺术研究院中国油画院美术馆展出。展览以美术教学机构真艺坊2011年至2026年的十五年艺术教育实践为线索,集中呈现近百位青少年创作者的200余幅作品,涵盖绘画、书法、数字艺术及国际研学创作等多种形式。同期,真艺坊首届“优才计划”正式发布。 展览中,青少年创作者以不同媒介呈现出对自我、生命与未来的观察与思考。据介绍,“优才计划”将围绕学生的艺术感受、持续创作、独立思考、个人表达与成长潜力开展课程定制、专业指导、专题研究、跨媒介训练及展览实践,为入选的学生建立更具针对性和延续性的成长路径。
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